XEI Scientific Evactron E50 E-TC 净化器远程等离子源常用于 SEM、TEM、ALD 和 PVD 样品和基片制备
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XEI Scientific Evactron E50 E-TC 去污器系统包括：Evactron E50 E-TC 远程等离子自由基源，带气体吹扫选项，Evactron E50 E-TC 机架式控制器，Evactron E50 E-TC 触摸板界面，系统用户手册和 Evactron E50 电缆组。这些是我们理想真空 PlasmaVAC P50W 等离子清洁和去污系统的集成组件，是扫描 (SEM) 和透射 (TEM) 电子显微镜样品制备的理想产品。等离子清洗是至关重要的一步，因为它可以去除样品表面的有机污染物，提高图像质量和分析准确性。
等离子清洗对于去除以下样品和基材中的碳氢化合物污染至关重要：
Evactron E50 E-TC 表面处理规格：
等离子清洗是一种广泛应用于显微镜（包括扫描电子显微镜 (SEM) 和透射电子显微镜 (TEM)）的技术，用于制备和净化样品。它可有效去除样品表面的有机污染物，提高图像质量和分析准确性。以下是等离子清洗 SEM 和 TEM 样品的工作原理：
1.等离子清洗的原理
等离子清洗使用等离子体（一种高度电离的气体）去除污染物。等离子体是通过向低压气体（通常是氧气、氩气或氢气）施加高频电磁场而产生的。该过程会产生离子、电子和高反应性的中性物质。
2. 去除污染物
3.在 SEM 和 TEM 中的应用
4.使用等离子清洗的优势
等离子清洗对于去除以下样品和基材中的碳氢化合物污染至关重要：
- 扫描电子显微镜 (SEM)
- 透射电子显微镜 (TEM)
- X 射线光电子能谱 (XPS)
- X 射线光谱 (EDX)
- 低温等离子聚焦离子束 (Cryo-PFIB)
- 原子层沉积 (ALD)
- 物理气相沉积 (PVD)
- 极紫外光刻 (EUVL)
Evactron E50 E-TC 表面处理规格：
- XEI Scientific 远程等离子源
- 型号 Evactron E50 E-TC
- 功率可在 35 至 75 瓦之间调节
- 最大 50 瓦连续运行
- 射频频率为 13.56 MHz
- 两种气体入口过滤器选项：3 nm 和0.5 µm 孔径
- 3 nm 孔径符合半导体行业 SEMI F38-0699 指令
- 使用 O2、CDA、Ar/H2、Ar/O2、N2/H2 和 N2 气体进行测试。
- 专用 Evactron 用户界面控制器
- 存储用户设置
- 配方、功率、循环和清洁时长
等离子清洗是一种广泛应用于显微镜（包括扫描电子显微镜 (SEM) 和透射电子显微镜 (TEM)）的技术，用于制备和净化样品。它可有效去除样品表面的有机污染物，提高图像质量和分析准确性。以下是等离子清洗 SEM 和 TEM 样品的工作原理：
1.等离子清洗的原理
等离子清洗使用等离子体（一种高度电离的气体）去除污染物。等离子体是通过向低压气体（通常是氧气、氩气或氢气）施加高频电磁场而产生的。该过程会产生离子、电子和高反应性的中性物质。
2. 去除污染物
- 在等离子清洗过程中：
- 物理去除：等离子体中的高能离子轰击样品表面，物理溅射掉污染物。
- 化学反应：等离子体中的活性物质可以与污染物发生化学反应。例如，氧自由基可以氧化有机材料，将其变成容易去除的挥发性化合物。
3.在 SEM 和 TEM 中的应用
- 对于 SEM 样品：
- 净化：等离子清洗可去除指纹、油污和空气中的微粒等有机残留物，这些残留物可能会遮挡细节或干扰电子束。
- 改善成像：通过清洁表面，等离子处理可降低带电效应并提高 SEM 和 TEM 图像的分辨率和对比度。
- 增强分辨率和对比度：干净的样品表面可使电子和样品之间更好地相互作用，这对于在 SEM 和 TEM 中实现高分辨率和高对比度图像至关重要。
- 涂层准备：通常在将导电涂层施加到非导电样品之前使用，以确保涂层附着良好且均匀。
4.使用等离子清洗的优势
- 对样品温和：与化学清洗方法不同，等离子清洗通常不会破坏样品表面。
- 快速高效：该过程可能需要几分钟到一个小时，具体取决于污染程度和样品大小。
- 多功能：对各种材料都有效，包括金属、陶瓷和生物样品。
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