XEI Scientific Evactron E50 E-TC 汚染除去装置 リモートプラズマソース SEM、TEM、ALD、PVD サンプルおよび基板の準備によく使用されます

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XEI Scientific Evactron E50 E-TC 汚染除去装置リモート プラズマ ソースは、SEM、TEM、ALD、PVD サンプルおよび基板の準備によく使用されます。

XEI Scientific Evactron E50 E-TC 汚染除去装置システムは、Evactron E50 E-TC リモート プラズマ ラジカル ソース (ガス パージ オプション付き)、Evactron E50 E-TC ラック マウント コントローラ、Evactron E50 E-TC タッチパッド インターフェイス、システム ユーザー マニュアル、および Evactron E50 ケーブル セットで構成されています。これらは、走査型 (SEM) および透過型 (TEM) 電子顕微鏡のサンプル準備に最適な製品である、Ideal Vacuum PlasmaVAC P50W プラズマ洗浄および除染システムの統合コンポーネントです。プラズマ洗浄は、サンプル表面から有機汚染物質を除去し、画像品質と分析精度を向上させる重要なステップです。

プラズマ洗浄は、以下の用途で使用されるサンプルや基板から炭化水素汚染を除去するために不可欠です。
  • 走査型電子顕微鏡 (SEM)
  • 透過型電子顕微鏡 (TEM)
  • X 線光電子分光法 (XPS)
  • X 線分光法 (EDX) 
  • クライオプラズマ集束イオンビーム (クライオ PFIB)
  • 原子層堆積法 (ALD) 
  • 物理蒸着法 (PVD)
  • 極端紫外線リソグラフィー (EUVL)

Evactron E50 E-TC 表面処理仕様:
  • XEI Scientific 製リモート プラズマ ソース
  • モデル Evactron E50 E-TC
  • 35 ~ 75 ワットの間で調整可能な電力
  • 最大 50 ワットの連続動作
  • RF 周波数 13.56 MHz
  • 2 つのガス入口フィルター オプション: 3 nm および0.5 µm の細孔サイズ
  • 3 nm の細孔サイズは、半導体業界の SEMI F38-0699 指令に準拠しています
  • O2、CDA、Ar/H2、Ar/O2、N2/H2、および N2 ガスでテスト済み。
  • 専用の Evactron ユーザー インターフェイス コントローラー
  • ユーザー設定の保存
  • レシピ、電力、サイクル、およびクリーニングの長さ

プラズマ クリーニングは、走査型電子顕微鏡 (SEM) や透過型電子顕微鏡 (TEM) などの顕微鏡で広く使用されている手法で、サンプルの準備と汚染除去に使用されます。サンプル表面から有機汚染物質を効果的に除去し、画像品質と分析精度を向上させます。SEM および TEM サンプルのプラズマ クリーニングの仕組みは次のとおりです。

1.プラズマ洗浄の原理
プラズマ洗浄では、高度にイオン化されたガスであるプラズマを使用して汚染物質を除去します。プラズマは、低圧ガス(通常は酸素、アルゴン、または水素)に高周波電磁場を適用することで生成されます。このプロセスにより、反応性の高いイオン、電子、および中性種が生成されます。

2. 汚染物質の除去
    プラズマ洗浄プロセスでは、次のことが行われます。
  • 物理的除去: プラズマ内の高エネルギーイオンがサンプル表面に衝突し、汚染物質を物理的に吹き飛ばします。
  • 化学反応: プラズマ内の反応性種は、汚染物質と化学的に相互作用します。たとえば、酸素ラジカルは有機材料を酸化して、簡単に除去できる揮発性化合物に変えることができます。

3. SEM および TEM での応用
    SEM サンプルの場合:
  • 除染: プラズマ洗浄により、指紋、油、浮遊微粒子などの有機残留物が除去されます。これらは、詳細を不明瞭にしたり、電子ビームを妨害したりする恐れがあります。
  • 画像の改善: プラズマ処理により表面が洗浄されるため、帯電効果が低減し、SEM および TEM 画像の解像度とコントラストが向上します。
  • 解像度とコントラストの向上: サンプル表面が洗浄されると、電子とサンプルの相互作用が改善されます。これは、SEM および TEM で高解像度で高コントラストの画像を実現するために重要です。
  • コーティングの準備: 導電性コーティングを非導電性サンプルに適用する前によく使用され、コーティングがしっかりと付着し、均一であることを確認します。

4.プラズマ洗浄を使用する利点
  • サンプルに優しい: 化学洗浄法とは異なり、プラズマ洗浄は一般にサンプル表面を破壊しません。
  • 高速かつ効率的: 汚染レベルとサンプルサイズに応じて、プロセスには数分から 1 時間かかります。
  • 多用途: 金属、セラミック、生物サンプルなど、さまざまな材料に効果的です。

ExploraVAC-System-with-Evactron-User-Manual.pdf (ExploraVAC-System-with-Evactron-User-Manual.pdf, 6,751 Kb) [ダウンロード]

Ideal-Vacuum-PlasmaVAC-Datasheet.pdf (Ideal-Vacuum-PlasmaVAC-Datasheet.pdf, 690 Kb) [ダウンロード]

IdealVac-PlasmaVAC-Cleaner_Brochure.pdf (IdealVac-PlasmaVAC-Cleaner_Brochure.pdf, 9,574 Kb) [ダウンロード]

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