Pfeiffer HiCube 300 NEO 桌上型渦輪分子泵站 DN 100，CF 6 英寸，帶 MVP 030-3 隔膜。編號：PM 027 020 -T
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Pfeiffer HiCube™ 300 NEO 桌上型渦輪分子泵站 DN 100，CF 6 英寸，帶 MVP 030-3 隔膜。
Pfeiffer 零件號：PM 027 020 -T。 <中心>
這款普發 HiCube 300 NEO 是高真空應用的完整解決方案。模組化、靈活、緊湊、多功能，抽氣壓力低至 10-8 Torr。配備帶有風扇冷卻的 HiPace 300 渦輪泵和 6.0" CF 入口法蘭、MVP 030-3 隔膜（前級泵/低真空泵）、TPS 110 電源包和 DCU 002（顯示和控制單元）。DCU 可以也可以從金屬外殼中取出並用作遙控器。 u>Pfeiffer 壓力表。
普發真空此產品有不同的零件號，我們列出了這些零件號碼以便於交叉參考：
促銷零件編號：PM 027 020-T
手冊部件號：PM Q121 013 00
SAP 零件號碼：2000117445
功能強大且用途廣泛
我們的 HiCube Neo 渦輪抽氣裝置的抽速為 80–800 l/s，可提供高真空應用所需的性能。當使用 HiPace H 時，可以實現 <10-10 hPa 的超高真空。不同前級泵的可用性，例如隔膜泵、旋片泵、渦旋泵和多級羅茨泵，使其用途極為廣泛。憑藉桌面版和獨立版以及適用於任何應用程式的可配置性，我們提供了最大的靈活性。
直覺的控制與分析
由於其即插即用操作，HiCube Neo 可以立即使用。它透過 7" 彩色觸控螢幕控制面板進行直觀控制。還可以透過網路伺服器進行方便的監控和遠端控制，同時透過 OPC UA 記錄測量數據，實現詳細分析以實現最佳製程控制。將 HiCube Neo 與我們全面的測量設備和其他配件產品組合可為任何高真空應用創建客製化解決方案。
可靠且堅固
依靠我們的 HiCube Neo 久經考驗的穩健性和可靠性，它的設計即使在苛刻的條件下也能可靠地工作。開放式設計可輕鬆維護並輕鬆存取組件。
節能
前級幫浦的節能待機運作不僅可以節省能源，還可以降低您的營運成本。
應用領域
HiCube Neo 渦輪泵裝置是工業和研究與研究領域廣泛應用的理想合作夥伴。在產生高真空或抽出小體積時的發展。
典型應用領域有：
氣體分析
測量管的校準
實驗室應用
殘餘氣體分析
低溫技術
透過我們的新型渦輪泵站體驗真空技術的未來—創新、強大且根據您的要求量身定制。
Pfeiffer 零件號：PM 027 020 -T。 <中心>
普發真空此產品有不同的零件號，我們列出了這些零件號碼以便於交叉參考：
功能強大且用途廣泛
我們的 HiCube Neo 渦輪抽氣裝置的抽速為 80–800 l/s，可提供高真空應用所需的性能。當使用 HiPace H 時，可以實現 <10-10 hPa 的超高真空。不同前級泵的可用性，例如隔膜泵、旋片泵、渦旋泵和多級羅茨泵，使其用途極為廣泛。憑藉桌面版和獨立版以及適用於任何應用程式的可配置性，我們提供了最大的靈活性。
直覺的控制與分析
由於其即插即用操作，HiCube Neo 可以立即使用。它透過 7" 彩色觸控螢幕控制面板進行直觀控制。還可以透過網路伺服器進行方便的監控和遠端控制，同時透過 OPC UA 記錄測量數據，實現詳細分析以實現最佳製程控制。將 HiCube Neo 與我們全面的測量設備和其他配件產品組合可為任何高真空應用創建客製化解決方案。
可靠且堅固
依靠我們的 HiCube Neo 久經考驗的穩健性和可靠性，它的設計即使在苛刻的條件下也能可靠地工作。開放式設計可輕鬆維護並輕鬆存取組件。
節能
前級幫浦的節能待機運作不僅可以節省能源，還可以降低您的營運成本。
應用領域
HiCube Neo 渦輪泵裝置是工業和研究與研究領域廣泛應用的理想合作夥伴。在產生高真空或抽出小體積時的發展。
典型應用領域有：
透過我們的新型渦輪泵站體驗真空技術的未來—創新、強大且根據您的要求量身定制。
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