理想真空圆形磁控溅射靶材，二氧化锆 - ZrO
Delivery
Payment options
Our advantages
- — 12 months warranty
- — SMS notification
- — Return and exchange
- — Different payment methods
- — Best price
Ideal Vacuum Products, LLC.
本产品为圆形磁控 ZrO2 溅射靶，直径 3'' x 厚度 0.125"。它的纯度为 99.99%，并与 OFHC（无氧高导电性）铜背板进行金属粘合
我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您每次购买都能物有所值。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们库存大量产品，保证客户下单后当天发货。这种短交货期深受所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户喜爱。我们的老客户可以保持较低的库存水平，降低仓储成本，并将过时的风险降至最低。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求来保持领先于竞争对手。
氧化锆
二氧化锆 (ZrO2)，也称为氧化锆，是一种由锆和氧组成的无机化合物。它是一种白色结晶固体，以其出色的硬度、化学稳定性和高熔点而闻名。ZrO2 因其强大的物理特性和多功能性而广泛应用于各种工业和科学应用。
二氧化锆 (ZrO2) 因其出色的热、化学和光学特性而广泛用于薄膜涂层。其高折射率、化学稳定性和机械耐久性使其成为各种先进薄膜应用的理想材料。以下是 ZrO2 在薄膜涂层中的主要用途：
1. 光学涂层。
2. 介电层。
3. 保护和阻隔涂层
4. 热障涂层。
二氧化锆薄膜因其独特的高折射率、介电强度和热稳定性组合而广泛应用于各种先进应用，包括光学设备、微电子、保护涂层和高温系统。
我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您每次购买都能物有所值。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们库存大量产品，保证客户下单后当天发货。这种短交货期深受所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户喜爱。我们的老客户可以保持较低的库存水平，降低仓储成本，并将过时的风险降至最低。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求来保持领先于竞争对手。
氧化锆
二氧化锆 (ZrO2)，也称为氧化锆，是一种由锆和氧组成的无机化合物。它是一种白色结晶固体，以其出色的硬度、化学稳定性和高熔点而闻名。ZrO2 因其强大的物理特性和多功能性而广泛应用于各种工业和科学应用。
二氧化锆 (ZrO2) 因其出色的热、化学和光学特性而广泛用于薄膜涂层。其高折射率、化学稳定性和机械耐久性使其成为各种先进薄膜应用的理想材料。以下是 ZrO2 在薄膜涂层中的主要用途：
1. 光学涂层。
2. 介电层。
3. 保护和阻隔涂层
4. 热障涂层。
二氧化锆薄膜因其独特的高折射率、介电强度和热稳定性组合而广泛应用于各种先进应用，包括光学设备、微电子、保护涂层和高温系统。
RF 与 DC 溅射：
RF 溅射通常是溅射纯金属氧化物的首选方法，因为它们是绝缘体，而 RF 具有交变电场，可防止目标表面电荷积聚。这种交变场减少了在直流溅射中会引起电弧的电荷积累。
沉积速率：
沉积速率较低：在射频溅射中，与直流溅射相比，功率传输到等离子体的效率较低，这主要是由于电场的交变性质。这导致与等效功率条件下的直流溅射相比，沉积速率较低。
靶材：
对于导电靶材（如反应溅射中的钛），直流溅射具有较高的沉积速率。对于纯金属氧化物等绝缘靶材，必须使用射频溅射，沉积速率通常较低。
功率水平：
增加功率可以提高射频和直流溅射的沉积速率，但对于导电材料，直流溅射的沉积速率仍然往往较高。
压力和气体流量：
通过优化气体压力和流量，可以实现更高的沉积速率，RF 和 DC 的最佳条件不同。
注意：
建议对所有介电靶材使用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有不易溅射的特性，例如易碎和导热性低。这些靶材由于导热性低，最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。
请登录，以便我们通知您回复
