理想真空圓形磁控濺鍍靶材，二氧化鋯 - ZrO
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理想真空圓形磁控濺鍍靶材，氧化鋯- ZrO2 濺射靶材，直徑3 英寸x 厚0.125 英寸，純度99.99%，金屬粘合到OFHC 銅背板
理想真空產品股份有限公司。
本產品為圓形磁控管 ZrO2 濺鍍靶材，直徑為 3''，厚度為 0.125"。純度為 99.99%，與 OFHC 金屬結合(無氧高導)銅背板
我們採用極具競爭力的定價策略，確保您以盡可能高的價值獲得最優質的產品，讓您在每次購買時都能負擔得起且卓越。我們為每位客戶提供巨額折扣，大量訂購的客戶將享受巨額折扣。我們庫存大量產品，保證客戶下單後當天出貨。 這種較短的交貨時間受到所有希望以更快的周轉時間管理現金流的客戶的喜愛。我們的老客戶可以保持較低的庫存水平，降低儲存成本並最大限度地降低過時的風險。從 Ideal Vacuum 購買意味著客戶可以更快收到產品，從而提高滿意度並滿足他們的緊急需求。這也使我們的客戶能夠快速適應新趨勢和需求，從而在競爭中保持領先。 氧化鋯
二氧化鋯（ZrO2）又稱為氧化鋯，是一種由鋯和氧組成的無機化合物。它是一種白色結晶固體，以其卓越的硬度、化學穩定性和高熔點而聞名。 ZrO2 因其強大的物理性能和多功能性而廣泛應用於各種工業和科學應用。 二氧化鋯 (ZrO2) 因其卓越的熱學、化學和光學性能而廣泛用於薄膜塗層。其高折射率、化學穩定性和機械耐久性使其成為各種先進薄膜應用的理想材料。以下是ZrO2在薄膜塗層中的主要用途：
1. 光學鍍膜。 2.介電層。 3.保護隔離塗層
4.熱障塗層。
二氧化鋯薄膜因其高折射率、介電強度和熱穩定性的獨特組合而被廣泛用於先進的應用，包括光學元件、微電子、保護塗層和高溫系統。
理想真空產品股份有限公司。
我們採用極具競爭力的定價策略，確保您以盡可能高的價值獲得最優質的產品，讓您在每次購買時都能負擔得起且卓越。我們為每位客戶提供巨額折扣，大量訂購的客戶將享受巨額折扣。我們庫存大量產品，保證客戶下單後當天出貨。 這種較短的交貨時間受到所有希望以更快的周轉時間管理現金流的客戶的喜愛。我們的老客戶可以保持較低的庫存水平，降低儲存成本並最大限度地降低過時的風險。從 Ideal Vacuum 購買意味著客戶可以更快收到產品，從而提高滿意度並滿足他們的緊急需求。這也使我們的客戶能夠快速適應新趨勢和需求，從而在競爭中保持領先。 氧化鋯
二氧化鋯（ZrO2）又稱為氧化鋯，是一種由鋯和氧組成的無機化合物。它是一種白色結晶固體，以其卓越的硬度、化學穩定性和高熔點而聞名。 ZrO2 因其強大的物理性能和多功能性而廣泛應用於各種工業和科學應用。 二氧化鋯 (ZrO2) 因其卓越的熱學、化學和光學性能而廣泛用於薄膜塗層。其高折射率、化學穩定性和機械耐久性使其成為各種先進薄膜應用的理想材料。以下是ZrO2在薄膜塗層中的主要用途：
1. 光學鍍膜。 2.介電層。 3.保護隔離塗層
4.熱障塗層。
二氧化鋯薄膜因其高折射率、介電強度和熱穩定性的獨特組合而被廣泛用於先進的應用，包括光學元件、微電子、保護塗層和高溫系統。
射頻與直流濺鍍：
射頻濺鍍通常是濺鍍純金屬氧化物的首選方法，因為它們是絕緣體，並且射頻具有交流電場，可以防止靶表面上的電荷積聚。這種交變場減少了電荷積累，否則會在直流濺射中引起電弧。 沉積速率：
較低的沉積速率：在射頻濺射中，與直流相比，向等離子體的功率傳輸效率較低，這主要是由於電場的交替性質。與同等功率條件下的直流濺鍍相比，這導致沉積速率較低。 目標材質：
對於導電靶材（如反應濺鍍中的鈦），直流濺鍍具有更高的沉積速率。對於純金屬氧化物等絕緣目標，必須使用射頻濺射，且沉積速率通常較低。 功率等級：
增加功率可以提高射頻和直流濺鍍的沉積速率，但對於導電材料來說，直流濺鍍的沉積速率仍然較高。
壓力與氣體流量：
透過優化氣體壓力和流量，以及射頻與直流的不同最佳條件，可以實現更高的沉積速率。
註解：
建議對所有介電靶材使用金屬或彈性體背板黏合，因為這些材料具有不適合濺鍍的特性，例如脆性和低導熱性。這些目標由於導熱率低而最容易受到熱衝擊的影響，因此在啟動和關閉步驟期間可能需要特定的功率上升和下降程序。
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