理想真空圆形磁控溅射靶，氧化钽- Ta
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Ideal Vacuum Products, LLC。
本产品为圆形磁控氧化钽- Ta2O5 溅射靶，直径 3'' x 厚度 0.125"。它的纯度为 99.995%，并与 OFHC（无氧高导电性）铜背板进行金属粘合。
我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您每次购买都能物有所值。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们库存大量产品，保证客户下单后当天发货。这种短交货期深受所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户喜爱。我们的老客户可以保持较低的库存水平，降低仓储成本，并将过时的风险降至最低。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新趋势和需求，从而在竞争中保持领先地位。
氧化钽 - Ta2 O5
五氧化二钽
五氧化二钽 (Ta2O5) 是一种由钽和氧组成的无机化合物。它是一种白色结晶粉末，以其高折射率、优异的化学稳定性和介电性能而闻名。Ta2O5 因其独特的性能组合而被广泛用于光学和电子应用。
五氧化二钽 (Ta2O5) 因其出色的光学、电子和介电性能而被广泛用于薄膜涂层。其多功能性和形成稳定、高质量薄膜的能力使其成为各种高性能应用的理想选择：
1. 高折射率涂层：Ta2O5 用于镜头、镜子和滤光片的多层光学涂层。其高折射率有助于形成精确的防反射和高反射涂层。
2. 防反射涂层：与低折射率材料结合使用，可生产防反射涂层，以增强镜头和显示器的透光率。
3. 阻挡层：用作多层结构中防止氧化和腐蚀的保护层。
4. 电光和光子器件：
五氧化二钽独特的高折射率（550 nm 时约为 2.1 至 2.2）、介电强度和化学稳定性使其成为光学、电子和光子薄膜涂层中不可或缺的材料，有助于开发高性能设备和系统。
沉积方法：
Ta2O5 薄膜可以使用射频溅射、反应溅射（使用钽和氧气）和电子束蒸发沉积。 它还可以使用原子层沉积 (ALD) 沉积，用于微电子中的精确保形涂层。
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氧化钽 - Ta2 O5
五氧化二钽
五氧化二钽 (Ta2O5) 是一种由钽和氧组成的无机化合物。它是一种白色结晶粉末，以其高折射率、优异的化学稳定性和介电性能而闻名。Ta2O5 因其独特的性能组合而被广泛用于光学和电子应用。
五氧化二钽 (Ta2O5) 因其出色的光学、电子和介电性能而被广泛用于薄膜涂层。其多功能性和形成稳定、高质量薄膜的能力使其成为各种高性能应用的理想选择：
1. 高折射率涂层：Ta2O5 用于镜头、镜子和滤光片的多层光学涂层。其高折射率有助于形成精确的防反射和高反射涂层。
2. 防反射涂层：与低折射率材料结合使用，可生产防反射涂层，以增强镜头和显示器的透光率。
3. 阻挡层：用作多层结构中防止氧化和腐蚀的保护层。
4. 电光和光子器件：
五氧化二钽独特的高折射率（550 nm 时约为 2.1 至 2.2）、介电强度和化学稳定性使其成为光学、电子和光子薄膜涂层中不可或缺的材料，有助于开发高性能设备和系统。
沉积方法：
Ta2O5 薄膜可以使用射频溅射、反应溅射（使用钽和氧气）和电子束蒸发沉积。 它还可以使用原子层沉积 (ALD) 沉积，用于微电子中的精确保形涂层。
注意事项：
建议对所有介电靶材使用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有不适合溅射的特性，例如脆性和低导热性。由于这些目标的热导率低，它们最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。
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