理想的な真空円形マグネトロンスパッタリングターゲット、タンタル酸化物 - Ta
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Ideal Vacuum Products, LLC.
この製品は、直径 3 インチ x 厚さ 0.125 インチの円形マグネトロン タンタル酸化物 - Ta2O5 スパッタリング ターゲットです。純度は 99.995% で、OFHC (無酸素高伝導性) 銅バッキング プレートに金属結合されています。
当社は、お客様が最高品質の製品を可能な限り最高の価値で確実に受け取れるよう、非常に競争力のある価格戦略を採用しています。これにより、すべての購入において、手頃な価格と優れた品質の両方を実現しています。当社はすべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様は大幅な節約をお楽しみいただけます。当社は大量の製品を在庫しており、注文後、お客様には当日出荷を保証します。この短いリード タイムは、より迅速なターンアラウンド タイムでキャッシュ フローを管理したいすべてのお客様に好評です。当社の常連のお客様は、在庫レベルを低く抑え、保管コストを削減し、陳腐化のリスクを最小限に抑えることができます。Ideal Vacuum から購入すると、お客様は製品をより早く受け取ることができ、満足度が向上し、緊急のニーズを満たすことができます。これにより、お客様は新しいトレンドや需要に迅速に適応し、競争相手に先んじることができます。
タンタル酸化物 - Ta2 O5
五酸化タンタル
五酸化タンタル (Ta2O5) は、タンタルと酸素からなる無機化合物です。高屈折率、優れた化学的安定性、誘電特性で知られる白色の結晶性粉末です。Ta2O5 は、そのユニークな特性の組み合わせにより、光学および電子アプリケーションで広く使用されています。
五酸化タンタル (Ta2O5) は、その優れた光学特性、電子特性、誘電特性により、薄膜コーティングで広く使用されています。その汎用性と安定した高品質のフィルムを形成する能力により、さまざまな高性能アプリケーションに最適です。
1. 高屈折率コーティング: Ta2O5 は、レンズ、ミラー、フィルターの多層光学コーティングに使用されます。その高い屈折率により、精密な反射防止コーティングと高反射コーティングを作成できます。
2. 反射防止コーティング: 低屈折率材料と組み合わせて使用し、レンズやディスプレイの光透過率を高める反射防止コーティングを生成します。
3. バリア層: 多層構造の酸化や腐食に対する保護層として使用されます。
4. 電気光学およびフォトニックデバイス:
五酸化タンタルは、高屈折率 (550 nm で約 2.1 ～ 2.2)、誘電強度、化学的安定性のユニークな組み合わせにより、光学、電子工学、フォトニクスの薄膜コーティングに欠かせない材料となり、高性能デバイスやシステムの開発を可能にします。
堆積方法:
Ta2O5 薄膜は、RF スパッタリング、反応性スパッタリング (タンタルと酸素ガスを使用)、電子ビーム蒸着を使用して堆積できます。 また、マイクロエレクトロニクスの精密なコンフォーマルコーティング用に原子層堆積 (ALD) を使用して堆積されます。
当社は、お客様が最高品質の製品を可能な限り最高の価値で確実に受け取れるよう、非常に競争力のある価格戦略を採用しています。これにより、すべての購入において、手頃な価格と優れた品質の両方を実現しています。当社はすべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様は大幅な節約をお楽しみいただけます。当社は大量の製品を在庫しており、注文後、お客様には当日出荷を保証します。この短いリード タイムは、より迅速なターンアラウンド タイムでキャッシュ フローを管理したいすべてのお客様に好評です。当社の常連のお客様は、在庫レベルを低く抑え、保管コストを削減し、陳腐化のリスクを最小限に抑えることができます。Ideal Vacuum から購入すると、お客様は製品をより早く受け取ることができ、満足度が向上し、緊急のニーズを満たすことができます。これにより、お客様は新しいトレンドや需要に迅速に適応し、競争相手に先んじることができます。
タンタル酸化物 - Ta2 O5
五酸化タンタル
五酸化タンタル (Ta2O5) は、タンタルと酸素からなる無機化合物です。高屈折率、優れた化学的安定性、誘電特性で知られる白色の結晶性粉末です。Ta2O5 は、そのユニークな特性の組み合わせにより、光学および電子アプリケーションで広く使用されています。
五酸化タンタル (Ta2O5) は、その優れた光学特性、電子特性、誘電特性により、薄膜コーティングで広く使用されています。その汎用性と安定した高品質のフィルムを形成する能力により、さまざまな高性能アプリケーションに最適です。
1. 高屈折率コーティング: Ta2O5 は、レンズ、ミラー、フィルターの多層光学コーティングに使用されます。その高い屈折率により、精密な反射防止コーティングと高反射コーティングを作成できます。
2. 反射防止コーティング: 低屈折率材料と組み合わせて使用し、レンズやディスプレイの光透過率を高める反射防止コーティングを生成します。
3. バリア層: 多層構造の酸化や腐食に対する保護層として使用されます。
4. 電気光学およびフォトニックデバイス:
五酸化タンタルは、高屈折率 (550 nm で約 2.1 ～ 2.2)、誘電強度、化学的安定性のユニークな組み合わせにより、光学、電子工学、フォトニクスの薄膜コーティングに欠かせない材料となり、高性能デバイスやシステムの開発を可能にします。
堆積方法:
Ta2O5 薄膜は、RF スパッタリング、反応性スパッタリング (タンタルと酸素ガスを使用)、電子ビーム蒸着を使用して堆積できます。 また、マイクロエレクトロニクスの精密なコンフォーマルコーティング用に原子層堆積 (ALD) を使用して堆積されます。
注:
すべての誘電体ターゲット材料には、脆さや熱伝導率の低さなど、スパッタリングに適さない特性があるため、金属またはエラストマーのバッキングプレート接合が推奨されます。これらのターゲットは熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を最も受けやすく、そのため起動およびシャットダウンの手順中に特定の電力増加および減少手順が必要になる場合があります。
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