理想真空圆形磁控溅射靶，氟化镁 - MgF
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Ideal Vacuum Products, LLC.
本产品为圆形磁控氟化镁 - MgF2 溅射靶，直径 3'' x 厚度 0.125"。纯度为 99.995%，金属粘合到 OFHC（无氧高导电性）铜背板上。
我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最优质的产品，让您每次购买都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额节省。我们库存大量产品，保证客户下订单后当天发货。这种较短的交货期深受所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户喜爱。我们的老客户可以保持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大限度地降低过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求，在竞争中保持领先地位。
氟化镁 - MgF2
氟化镁 - MgF2 因其出色的传输性能和耐用性而成为光学应用中广泛使用的材料。以下是其主要特性的总结：
折射率：~1.38（550 nm 时），是一种低折射率材料。
透明度范围：MgF2 具有宽透射窗口，可从深紫外（~120 nm）透射到中红外（~7 µm），适用于紫外、可见光和红外应用。
光学涂层：常用于镜头、滤光片和其他光学元件的防反射涂层和多层光学涂层。
耐用性：MgF2 坚硬且化学稳定，耐环境降解，适合在恶劣条件下使用。
沉积方法：由于其绝缘性质，通常通过射频溅射沉积。
MgF2 因其广泛的光学透明度和低折射率而被广泛选择，使其成为降低各种光学系统中反射率的理想选择。
我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最优质的产品，让您每次购买都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额节省。我们库存大量产品，保证客户下订单后当天发货。这种较短的交货期深受所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户喜爱。我们的老客户可以保持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大限度地降低过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求，在竞争中保持领先地位。
氟化镁 - MgF2
氟化镁 - MgF2 因其出色的传输性能和耐用性而成为光学应用中广泛使用的材料。以下是其主要特性的总结：
折射率：~1.38（550 nm 时），是一种低折射率材料。
透明度范围：MgF2 具有宽透射窗口，可从深紫外（~120 nm）透射到中红外（~7 µm），适用于紫外、可见光和红外应用。
光学涂层：常用于镜头、滤光片和其他光学元件的防反射涂层和多层光学涂层。
耐用性：MgF2 坚硬且化学稳定，耐环境降解，适合在恶劣条件下使用。
沉积方法：由于其绝缘性质，通常通过射频溅射沉积。
MgF2 因其广泛的光学透明度和低折射率而被广泛选择，使其成为降低各种光学系统中反射率的理想选择。
RF 与 DC 溅射：
RF 溅射通常是溅射纯金属氧化物的首选方法，因为它们是绝缘体，而 RF 具有交变电场，可防止目标表面电荷积聚。这种交变场减少了电荷积聚，否则会导致 DC 溅射产生电弧。
沉积速率：
较低的沉积速率：在 RF 溅射中，与 DC 相比，功率传输到等离子体的效率较低，这主要是由于电场的交变性质。与等效功率条件下的 DC 溅射相比，这导致沉积速率较低。
目标材料：
对于导电目标（如反应溅射中的钛），DC 溅射具有更高的沉积速率。对于纯金属氧化物等绝缘靶材，必须使用射频溅射，而且沉积速率通常较低。
功率水平：
增加功率可以提高射频和直流溅射的沉积速率，但对于导电材料，直流的沉积速率仍然更高。
压力和气流：
通过优化气体压力和流量可以实现更高的沉积速率，射频和直流的最佳条件不同。
注意事项：
建议对所有介电靶材使用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有不适合溅射的特性，例如脆性和低热导率。这些靶材由于导热性低，最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤期间可能需要特定的功率上升和下降程序。
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