理想的真空氟化鈣片 – CaF
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物理氣相沉積顆粒，氟化鈣片 - CaF2，100 克，純度 99.9%，CaF2 熔點 1,423°C，6 x 6 mm 片< /b>
理想真空產品股份有限公司。
此產品為一瓶 100 克氟化鈣片 - CaF2，純度為 99.9%，尺寸為 6 x 6 毫米，採用 PET 塑膠瓶運輸。這些碎片的密度為 3.18 g/cc，熔點為 1,423 °C，1,100 °C 時的蒸氣壓為 10-4 托。 它的 Z 比為 0.775。
我們採用極具競爭力的定價策略，確保您以盡可能高的價值獲得最優質的產品，讓您在每次購買時都能負擔得起且卓越。我們為每位客戶提供巨額折扣，大量訂購的客戶將享受巨額折扣。我們庫存大量產品，保證客戶下單後當天出貨。 這種較短的交貨時間受到所有希望以更快的周轉時間管理現金流的客戶的喜愛。我們的老客戶可以保持較低的庫存水平，降低儲存成本並最大限度地降低過時的風險。從 Ideal Vacuum 購買意味著客戶可以更快收到產品，從而提高滿意度並滿足他們的緊急需求。這也使我們的客戶能夠快速適應新趨勢和需求，從而在競爭中保持領先。
價格匹配保證
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氟化鈣
氟化鈣（CaF2）是一種由鈣和氟組成的無機化合物。它通常以白色結晶固體的形式出現，天然存在於礦物螢石中。 CaF2 以其優異的光學性能和在廣泛波長範圍內的高透明度而聞名，廣泛應用於光學和工業應用。 氟化鈣 (CaF2) 用於薄膜塗層主要是因為其卓越的光學性能，使其成為高性能光學應用中的寶貴材料。其在寬波長範圍（從紫外線到紅外線）內的透明度和低折射率使其適合特定的薄膜應用：
1. 抗反射塗層。 2. 紫外線和紅外線光學鍍膜。 3. 雷射光學：在雷射系統中，CaF2 薄膜充當雷射窗口和鏡子上的保護塗層，防止高強度雷射光束損壞，同時保持清晰度。 4.介電塗層：其高介電強度和穩定性使其適合作為特定電子和光學元件中的介電層。 5. 分束器和濾光片。 鋁的多功能性和易於沉積性使其成為功能性和裝飾性薄膜應用中廣泛使用的材料。
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氟化鈣
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1. 抗反射塗層。 2. 紫外線和紅外線光學鍍膜。 3. 雷射光學：在雷射系統中，CaF2 薄膜充當雷射窗口和鏡子上的保護塗層，防止高強度雷射光束損壞，同時保持清晰度。 4.介電塗層：其高介電強度和穩定性使其適合作為特定電子和光學元件中的介電層。 5. 分束器和濾光片。 鋁的多功能性和易於沉積性使其成為功能性和裝飾性薄膜應用中廣泛使用的材料。
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總體而言，氟化鈣的低折射率、高透光率和化學穩定性使其成為專業光學塗層和薄膜應用的絕佳選擇。
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