Pompe à vide sèche Edwards iXM 200 200-230 VCA 50/60 Hz 3 ph. PN A56106958
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Référence Edwards A56106958
La pompe à vide sèche Edwards iXM 200 est une nouvelle gamme de pompes sèches conçues pour la fabrication verte. Utilisant une très faible consommation d'énergie, le mécanisme à racines efficace a été développé pour réduire considérablement la puissance d'entrée à 1,3 kW, soit 60 % de moins que la génération précédente de pompes sèches, réduisant ainsi l'impact environnemental et le coût de possession.
La technologie de barrière aux gaz et les améliorations de la conception thermique permettent une résistance à la corrosion quatre fois supérieure à celle des produits de la série iH. Les fonctionnalités avancées de manipulation de poudre signifient que l'iXM
offrira une fiabilité maximale et une durée de vie prolongée de la pompe
pour les processus de gravure multicouche et une consommation d'énergie réduite
pour les processus CVD.
Les pompes Edwards iXM série 200 sont compactes et de conception légère, combinées à un bruit et à des vibrations exceptionnellement faibles, ce qui fait de l'iXM la pompe sèche la plus polyvalente de la gamme Edwards. iXM transformera vos attentes en matière de technologie de pompe à vide sèche, offrira de réels avantages et une disponibilité accrue, avec un impact environnemental minimal. Les pompes iXM sont conçues pour être utilisées dans la plupart des processus de semi-conducteurs tout en offrant des réductions significatives de la puissance d'entrée. Pour le manuel d'instructions complet, voir les téléchargements sur le côté.
CARACTÉRISTIQUES et AVANTAGES :
Les pompes Edwards iXM série 200 sont compactes et de conception légère, combinées à un bruit et à des vibrations exceptionnellement faibles, ce qui fait de l'iXM la pompe sèche la plus polyvalente de la gamme Edwards. iXM transformera vos attentes en matière de technologie de pompe à vide sèche, offrira de réels avantages et une disponibilité accrue, avec un impact environnemental minimal. Les pompes iXM sont conçues pour être utilisées dans la plupart des processus de semi-conducteurs tout en offrant des réductions significatives de la puissance d'entrée. Pour le manuel d'instructions complet, voir les téléchargements sur le côté.
CARACTÉRISTIQUES et AVANTAGES :
- Principalement pour les applications chimiques propres à légèrement agressives (voir le spectre d'application ci-dessous)
- Vitesse de pompage maximale de 200 m3/h-1 (118 CFM)
- Pression ultime de 1,5 x 10-2 Torr
- Contient uniquement la pompe primaire
- Aucune maintenance préventive requise
- Remplissages d'eau à connexion rapide de 3/8 po
- Eau et Moitiés d'accouplement de connexion d'alimentation
- Système de refroidissement par eau SS
- Module à gaz Varimode
APPLICATIONS :- Verrouillage de charge
- Transfert
- Météorologie
- Lithographie
- Procédé PVD de dépôt physique en phase vapeur
- Pré-nettoyage PVD de dépôt physique en phase vapeur
- Recuit thermique rapide RTA
- Décapage/Cencinage
- Gravure
- Source d'implantation
- Dépôt chimique en phase vapeur au plasma haute densité HDP CVD
- Traitement thermique rapide RTP
- Dépôt chimique en phase vapeur sous-atmosphérique SACVD
- Dépôt chimique en phase vapeur de tungstène WCVD
- Dépôt chimique en phase vapeur modifié MCVD
- Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma PECVD
- Dépôt chimique en phase vapeur à basse pression LPCVD
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