Edwards iXM 1200 干式真空泵 200-230 VAC 50/60 hz 3 ph. PN A56146958

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Edwards iXM 1200 干式真空泵 200-230 VAC 50/60 hz 3 ph。
Edwards 零件编号 A56146958


Edwards iXM 1200 是专为绿色制造而打造的全新干式泵系列。高效的罗茨泵机构使​​用极低的能源,已开发出可大幅降低输入功率至 1.3 kW,比上一代干式泵低 60%,从而减少对环境的影响并降低拥有成本。 气体阻隔技术和热设计改进使耐腐蚀性比 iH 系列产品高出四倍。先进的粉末处理功能意味着 iXM 将为多层蚀刻工艺提供最大的可靠性和更长的泵寿命,并为 CVD 工艺降低功耗。

Edwards iXM 1200 系列泵结构紧凑、重量轻,噪音和振动极低,使 iXM 成为 Edwards 系列中最通用的干泵。iXM 将 改变您对干式真空泵技术的期望,带来真正的好处和更长的正常运行时间,同时将环境影响降至最低。iXM 泵设计用于大多数半导体工艺,同时显著降低输入功率。 如需完整的使用说明书,请参阅侧面的下载。

特点和优点:
  • 主要用于清洁至轻度腐蚀性化学应用(请参阅下面的应用范围)
  • 峰值抽速 1030 m3/h-1 (606 CFM)
  • 极限压力 5.0 X 10-3 Torr
  • 无需预防性维护
  • 3/8 英寸快速连接水填充物
  • 水和电源连接配对半部
  • SS 水冷系统
  • Varimode 气体模块

    应用:
    • 负载锁
    • 传输
    • 气象学
    • 光刻
    • 物理气相沉积 PVD ​​工艺
    • 物理气相沉积 PVD ​​预清洁
    • 快速热退火 RTA
    • 剥离/灰化
    • 蚀刻
    • 注入源
    • 高密度等离子体化学气相沉积 HDP CVD
    • 快速热处理 RTP
    • 亚大气压化学气相沉积SACVD
    • 钨化学气相沉积 WCVD
    • 改进的化学气相沉积 MCVD
    • 等离子体增强化学气相沉积 PECVD
    • 低压化学气相沉积 LPCVD

Edwards_iXM_Instructions.pdf (Edwards_iXM_Instructions.pdf, 9,740 Kb) [下载]

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