Edwards iXH 610 HARSH 干式真空泵 200-230 VAC 50/60 hz 3 ph. PN AC110A121100

$44,55237
$59,40315 -25%
在缺货
+
添加到收藏夹
Delivery
Payment options
Our advantages
  • — 12 months warranty
  • — SMS notification
  • — Return and exchange
  • — Different payment methods
  • — Best price
Edwards iXH 610 HARSH 干式真空泵 200-230 VAC 50/60 hz 3 ph。
Edwards 零件编号 AC110A121100。

Edwards iXH 610 是专为绿色制造和严苛化学工艺处理而打造的全新干式泵系列。高效的罗茨泵机构使​​用极低的能源,已开发出可将输入功率大幅降低至 1.3 kW,比上一代干式泵低 60%,从而减少对环境的影响并降低拥有成本。气体阻隔技术和热设计改进使其耐腐蚀性比 iH 系列产品高出四倍。先进的粉末处理功能意味着 iXH 将为多层蚀刻工艺提供最大的可靠性和更长的泵寿命,并为 CVD 工艺(尤其是 HARSH 化学品)降低功耗。

Edwards iXH 610 系列泵结构紧凑、重量轻,噪音和振动极低,使 iXH 成为 Edwards 系列中最通用的化学干泵。iXH 将 改变您对干式真空泵技术的期望, 提供真正的好处并增加正常运行时间,同时将环境影响降至最低。iXH 泵设计用于大多数半导体工艺,同时显著降低输入功率。 如需完整的使用说明书,请参阅下载。

特点和优点:
  • 主要用于苛刻的化学应用
  • 峰值抽速 665 m3/h-1 (391 CFM)
  • 极限压力 3.7 X 10-3 Torr
  • 无需预防性维护
  • 3/8 英寸快速连接水填充物
  • 水和电源连接配对半部
  • SS 水冷系统
  • 多模式 44 slm 气体模块

应用:
  • 负载锁
  • 传输
  • 气象学
  • 光刻
  • 物理气相沉积 PVD ​​工艺
  • 物理气相沉积 PVD ​​预清洁
  • 快速热退火 RTA
  • 剥离/灰化
  • 蚀刻
  • 注入源
  • 高密度等离子体化学气相沉积 HDP CVD
  • 快速热处理 RTP
  • 亚大气压化学气相沉积SACVD
  • 钨化学气相沉积 WCVD
  • 改进的化学气相沉积 MCVD
  • 等离子增强化学气相沉积 PECVD
  • 低压化学气相沉积 LPCVD


P61011379.sldprt (P61011379.sldprt, 21,096 Kb) [下载]

P61011379.step (P61011379.step, 40,422 Kb) [下载]

Edwards_iXH_Chemical_Resistant_Dry_Semiconductor_Pump_Brochure.pdf (Edwards_iXH_Chemical_Resistant_Dry_Semiconductor_Pump_Brochure.pdf, 997 Kb) [下载]

Edward_IXH_Manual-2.pdf (Edward_IXH_Manual-2.pdf, 1,870 Kb) [下载]

EdwardsMicroTIM_InstructionManual.pdf (EdwardsMicroTIM_InstructionManual.pdf, 953 Kb) [下载]

You may be interested
  • Most Popular
  • On Sale
  • Recently Viewed
 
Fast and high quality delivery

Our company makes delivery all over the country

Quality assurance and service

We offer only those goods, in which quality we are sure

Returns within 30 days

You have 30 days to test your purchase