Pompe à vide sèche Edwards iXH 610 HARSH 200-230 VCA 50/60 Hz 3 ph. PN AC110A121100
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Référence Edwards AC110A121100.
La pompe à vide sèche Edwards iXH 610 est une nouvelle gamme de pompes sèches conçues pour la fabrication verte
et le traitement de processus chimiques agressifs. Utilisant une très faible consommation d'énergie, le mécanisme à racines efficace
a été développé pour réduire considérablement la puissance d'entrée à
1,3 kW, soit 60 % de moins que la génération précédente de pompes sèches, réduisant ainsi l'impact environnemental et le coût de
possession.
La technologie de barrière aux gaz et les améliorations de la conception thermique
permettent une résistance à la corrosion quatre fois supérieure à celle des produits de la série
iH. Les fonctionnalités avancées de manipulation de poudre signifient que l'iXH
offrira une fiabilité maximale et une durée de vie prolongée de la pompe
pour les processus de gravure multicouche et une consommation d'énergie réduite
pour les processus CVD, en particulier avec les produits chimiques HARSH.
Les pompes Edwards iXH série 610 sont compactes et de conception légère, combinées à un bruit et à des vibrations exceptionnellement faibles, ce qui fait de l'iXH la pompe sèche chimique la plus polyvalente de la gamme Edwards. iXH transformera vos attentes en matière de technologie de pompe à vide sèche, offrira de réels avantages et une disponibilité accrue, avec un impact environnemental minimal. Les pompes iXH sont conçues pour être utilisées dans la plupart des processus de semi-conducteurs tout en offrant des réductions significatives de la puissance d'entrée. Pour le manuel d'instructions complet, voir TÉLÉCHARGEMENTS.
Les pompes Edwards iXH série 610 sont compactes et de conception légère, combinées à un bruit et à des vibrations exceptionnellement faibles, ce qui fait de l'iXH la pompe sèche chimique la plus polyvalente de la gamme Edwards. iXH transformera vos attentes en matière de technologie de pompe à vide sèche, offrira de réels avantages et une disponibilité accrue, avec un impact environnemental minimal. Les pompes iXH sont conçues pour être utilisées dans la plupart des processus de semi-conducteurs tout en offrant des réductions significatives de la puissance d'entrée. Pour le manuel d'instructions complet, voir TÉLÉCHARGEMENTS.
CARACTÉRISTIQUES et AVANTAGES :
- Principalement pour les applications chimiques DIFFICILES
- Vitesse de pompage maximale de 665 m3/h-1 (391 CFM)
- Pression ultime de 3,7 x 10-3 Torr
- Aucune maintenance préventive requise
- Remplissages d'eau à connexion rapide de 3/8 po
- Eau et Moitiés d'accouplement de connexion d'alimentation
- Système de refroidissement par eau SS
- Module à gaz multimode 44 slm
APPLICATIONS :
- Verrouillage de charge
- Transfert
- Météorologie
- Lithographie
- Procédé PVD de dépôt physique en phase vapeur
- Pré-nettoyage PVD de dépôt physique en phase vapeur
- Recuit thermique rapide RTA
- Décapage/Cencinage
- Gravure
- Source d'implantation
- Dépôt chimique en phase vapeur par plasma haute densité HDP CVD
- Traitement thermique rapide RTP
- Dépôt chimique en phase vapeur sous-atmosphérique SACVD
- Dépôt chimique en phase vapeur de tungstène WCVD
- Dépôt chimique en phase vapeur modifié MCVD
- Dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma PECVD
- Dépôt chimique en phase vapeur à basse pression LPCVD
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