Edwards iXH 1220H HARSH 乾式真空幫浦 200-230 VAC 50/60 Hz 3 相零件號碼 AC3B0A122200

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Edwards iXH 1220H HARSH 乾式真空幫浦 200-230 VAC 50/60 Hz 3 ph。
Edwards 零件號碼 AC3B0A122200


Edwards iXH 1220H 是專為綠色環保而打造的全新乾泵系列 惡劣化學製程的製造和加工。使用非常低的能量,高效率的根機制具有 被開發來顯著降低輸入功率 1.3kW,比上一代乾式低60% 泵,減少對環境的影響並降低成本 所有權。 氣體阻隔技術與熱設計改進 耐腐蝕性能是 iH 系列的四倍 產品。 iXH 具有先進的粉末處理功能 將提供最大的可靠性並延長泵浦的使用壽命 多層蝕刻製程並降低功耗 適用於 CVD 工藝,尤其是使用 HARSH 化學品的工藝。

Edwards iXH 1220H 系列幫浦結構緊湊、重量輕,結合了 噪音和振動極低,使 iXH 成為 Edwards 系列中最通用的化學乾泵。 iXH將 改變您對乾式真空幫浦技術的期望, 以最小的成本提供真正的好處並增加正常運行時間 環境影響。 iXH 幫浦設計用於大多數半導體 過程,同時顯著降低輸入功率。 完整的說明手冊,請參閱側面的下載。
特質與優點:
  • 主要用於嚴苛的化學應用
  • 峰值抽速 1200 m3/h-1 (645 CFM)
  • 極限壓力 3.7 X 10-3 Torr
  • 無需預防性維護
  • 3/8 吋快速連接注水裝置
  • 水和水電源連接接合半部
  • SS水冷系統
  • 多模式 44 slm 氣體模組

應用:
  • 載入鎖定
  • 轉移
  • 氣象學
  • 光刻
  • 物理氣相沉積 PVD ​​製程
  • 物理氣相沉積 PVD ​​預清洗
  • 快速熱退火 RTA
  • 剝離/灰化
  • 蝕刻
  • 植入來源
  • 高密度等離子體化學氣相沉積 HDP CVD
  • 快速熱處理 RTP
  • 低於大氣壓力化學氣相沉積 SACVD
  • 鎢化學氣相沉積 WCVD
  • 改良化學氣相沉積 MCVD
  • 等離子體增強化學氣相沉積 PECVD
  • 低壓化學氣相沉積 LPCVD

Edwards_iXH_Chemical_Resistant_Dry_Semiconductor_Pump_Brochure.pdf (Edwards_iXH_Chemical_Resistant_Dry_Semiconductor_Pump_Brochure.pdf, 997 Kb) [下載]

Edward_IXH_Manual-2.pdf (Edward_IXH_Manual-2.pdf, 1,870 Kb) [下載]

EdwardsMicroTIM_InstructionManual.pdf (EdwardsMicroTIM_InstructionManual.pdf, 953 Kb) [下載]

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