Pompe à vide sèche Edwards iXH 100 HARSH 200-230 VCA 50/60 Hz 3 ph. PN AC010A121000
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Référence Edwards AC010A121000.
La pompe à vide sèche Edwards iXH 100 est une nouvelle gamme de pompes sèches conçues pour la fabrication
verte et le traitement de processus chimiques agressifs. Utilisant une très faible consommation d'énergie, le mécanisme à racines efficace a
été développé pour réduire considérablement la puissance d'entrée à 1,3 kW, soit 60 % de moins que la génération précédente de pompes sèches, réduisant ainsi l'impact environnemental et le coût de
possession.
La technologie de barrière aux gaz et les améliorations de la conception thermique
permettent une résistance à la corrosion quatre fois supérieure à celle des produits de la série iH. Les fonctionnalités avancées de manipulation de poudre signifient que l'iXH
offrira une fiabilité maximale et une durée de vie prolongée de la pompe
pour les processus de gravure multicouche et une consommation d'énergie réduite
pour les processus CVD, en particulier avec les produits chimiques HARSH.
Les pompes Edwards iXH série 100 sont compactes et de conception légère, combinées à un bruit et à des vibrations exceptionnellement faibles, ce qui fait de l'iXH la pompe sèche chimique la plus polyvalente de la gamme Edwards. iXH transformera vos attentes en matière de technologie de pompe à vide sèche, offrira de réels avantages et une disponibilité accrue, avec un impact environnemental minimal. Les pompes iXH sont conçues pour être utilisées dans la plupart des processus de semi-conducteurs tout en offrant des réductions significatives de la puissance d'entrée. Ce modèle N'A PAS de pompe de surpression pour des performances accrues. Pour le manuel d'instructions complet, voir TÉLÉCHARGEMENTS.
CARACTÉRISTIQUES et AVANTAGES :
Les pompes Edwards iXH série 100 sont compactes et de conception légère, combinées à un bruit et à des vibrations exceptionnellement faibles, ce qui fait de l'iXH la pompe sèche chimique la plus polyvalente de la gamme Edwards. iXH transformera vos attentes en matière de technologie de pompe à vide sèche, offrira de réels avantages et une disponibilité accrue, avec un impact environnemental minimal. Les pompes iXH sont conçues pour être utilisées dans la plupart des processus de semi-conducteurs tout en offrant des réductions significatives de la puissance d'entrée. Ce modèle N'A PAS de pompe de surpression pour des performances accrues. Pour le manuel d'instructions complet, voir TÉLÉCHARGEMENTS.
- Principalement pour les applications chimiques DIFFICILES
- Vitesse de pompage maximale de 100 m3/h-1 (59 CFM)
- Pression ultime de 1,5 x 10-2 Torr
- Aucune maintenance préventive requise
- Contient uniquement la pompe primaire
- Remplissages d'eau à connexion rapide de 3/8 po
- Eau et Moitiés d'accouplement de connexion d'alimentation
- Système de refroidissement par eau SS
- Module à gaz multimode 44 slm
APPLICATIONS :
- Verrouillage de charge
- Transfert
- Météorologie
- Lithographie
- Procédé de dépôt physique en phase vapeur PVD
- Pré-nettoyage par dépôt physique en phase vapeur PVD
- Recuit thermique rapide RTA
- Décapage/Cencinage
- Gravure
- Source d'implantation
- Dépôt chimique en phase vapeur plasma haute densité HDP CVD
- Traitement thermique rapide RTP
- Dépôt chimique en phase vapeur sous-atmosphérique SACVD
- Tungstène Dépôt chimique en phase vapeur WCVD
- Dépôt chimique en phase vapeur modifié MCVD
- Dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma PECVD
- Dépôt chimique en phase vapeur à basse pression LPCVD
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