原子层沉积 (ALD) 液体前体蒸汽输送气瓶系统,304L 不锈钢,DOT-3E-1800 150cm3 气瓶

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原子层沉积 (ALD) 液体前体蒸汽输送气缸系统
气缸体积:150cm3
气缸等级:DOT-3E-1800


在化学气相沉积 (CVD)、金属有机化学气相沉积 (MOCVD) 和原子层沉积 (ALD) 工艺中,需要控制来自液体前体的气相蒸汽输送。这些液体蒸汽气体输送气缸包含一个集成的起泡器,有助于将前体蒸汽包含在缓冲气体流中。这些蒸汽输送气缸由耐化学腐蚀的 316 不锈钢制成,入口和排气处有 ¼ 圈球阀。气缸额定承受压力高达 1800 PSI(@ 37°C)。

气缸最大压力额定值随温度而变化。请勿对气缸加压超过其各自的温度限制

每个阀门上都印有流动方向,当缓冲气体以正确的方向流向沉积过程时,气缸底部会形成气泡,这些气泡会通过前体液体上升。这允许缓冲气体中稀释的前体蒸汽持续稳定流动,缓冲气体通常是氦气、氖气或氩气。这些液体前体蒸汽输送气瓶可以是加热器或冷器,以控制前体的蒸汽压力和浓度。这可以产生准确的流量浓度。

入口和出口阀是 ¼ 英寸 Swagelok® 接头球阀,不适用于自燃液体。对于高度易燃自燃液体的 ALD 应用,我们的输送缸升级为隔膜阀,以提高安全性,适用于自燃液体,例如三甲基铝 (TMA)、三乙基铝 (TEA)、二乙基锌 (DEZn) 和三甲基镓 (TMGa)。

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