Système de cylindre de distribution de vapeur de précurseur liquide par dépôt de couche atomique (ALD), acier inoxydable 304L, cylindre DOT-3E-1800 de 150 cm3
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Volume du cylindre : 150 cm3
Qualité du cylindre : DOT-3E-1800
La distribution contrôlée de vapeur en phase gazeuse à partir d'un précurseur liquide est nécessaire dans les processus de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), de dépôt chimique en phase vapeur organométallique (MOCVD) et de dépôt de couche atomique (ALD). Ces cylindres de distribution de gaz liquide-vapeur contiennent un barboteur intégré pour aider à contenir la vapeur précurseur dans un flux de gaz tampon. Ces cylindres de distribution de vapeur sont fabriqués en acier inoxydable 316 résistant aux produits chimiques avec des vannes à boisseau sphérique ¼ de tour à l'entrée et à l'échappement. Le cylindre est conçu pour résister à une pression allant jusqu'à 1 800 psi (à 37 °C).
La pression nominale maximale du cylindre varie en fonction de la température. NE PAS pressuriser les cylindres au-delà de leurs limites de température respectives
Le sens d'écoulement est imprimé sur chaque vanne. Lorsque le gaz tampon s'écoule dans la bonne direction vers le processus de dépôt, des bulles se forment au fond du cylindre qui montent à travers le liquide précurseur. Cela permet un flux constant et régulier de vapeur précurseur diluée dans le gaz tampon, qui est généralement de l'hélium, du néon ou de l'argon. Ces cylindres de distribution de vapeur précurseur liquide peuvent être chauffants ou froids pour contrôler la pression de vapeur et la concentration du précurseur. Cela permet de générer une concentration de débit précise.
Les vannes d'entrée et de sortie sont des vannes à boisseau sphérique à raccord Swagelok® de ¼ pouce, qui ne sont pas conçues pour les liquides pyrophoriques. Pour les applications ALD avec des liquides pyrophoriques hautement inflammables, nos cylindres de distribution sont équipés de vannes à membrane pour une sécurité accrue, devenant applicables aux liquides pyrophoriques, tels que le triméthylaluminium (TMA), le triéthylaluminium (TEA), le diéthylzinc (DEZn) et le triméthylgallium (TMGa).
La pression nominale maximale du cylindre varie en fonction de la température. NE PAS pressuriser les cylindres au-delà de leurs limites de température respectives
Le sens d'écoulement est imprimé sur chaque vanne. Lorsque le gaz tampon s'écoule dans la bonne direction vers le processus de dépôt, des bulles se forment au fond du cylindre qui montent à travers le liquide précurseur. Cela permet un flux constant et régulier de vapeur précurseur diluée dans le gaz tampon, qui est généralement de l'hélium, du néon ou de l'argon. Ces cylindres de distribution de vapeur précurseur liquide peuvent être chauffants ou froids pour contrôler la pression de vapeur et la concentration du précurseur. Cela permet de générer une concentration de débit précise.
Les vannes d'entrée et de sortie sont des vannes à boisseau sphérique à raccord Swagelok® de ¼ pouce, qui ne sont pas conçues pour les liquides pyrophoriques. Pour les applications ALD avec des liquides pyrophoriques hautement inflammables, nos cylindres de distribution sont équipés de vannes à membrane pour une sécurité accrue, devenant applicables aux liquides pyrophoriques, tels que le triméthylaluminium (TMA), le triéthylaluminium (TEA), le diéthylzinc (DEZn) et le triméthylgallium (TMGa).
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